Ultra-Thin Zirconium and Hafnium Silicate Films Deposited By MOCVD on Si100

Par Conseil national de recherches du Canada

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Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
ConférenceHigh-k Dielectrics Symposium
Numéro NPARC12346201
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Identificateur de l’enregistrementc21be32d-7d7b-4e23-bd19-25f2d0498e00
Enregistrement créé2009-09-17
Enregistrement modifié2020-04-16
Date de modification :