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A new KOH-based UV assisted wet etching technique and its alication to AlGaN/GaN HFET fabrication and characterization

Par Conseil national de recherches du Canada

AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut Steacie des sciences moléculaires du CNRC
FormatTexte, Article
ConférenceInternational Workshop on Nitride Semiconductors, 2000
Date de publication
Maison d’éditionInstitute of Pure and Applied Physics
Dans
  • Proceedings of International Workshop on Nitride Semiconductors (2000) : 965–968.
Série
  • IPAP Conf Series, nº 1.
Langueanglais
Numéro NPARC12346331
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Identificateur de l’enregistrement8a31afe4-6bdf-45ec-a2a5-8d9404c06f93
Enregistrement créé2009-09-17
Enregistrement modifié2020-12-18
Date de modification :