DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2018.02.003 |
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Auteur | Rechercher : Hayashida, Misa1; Rechercher : Cui, Kai1; Rechercher : Malac, Marek1; Rechercher : Egerton, Ray |
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Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Nanotechnologie
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Format | Texte, Article |
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Résumé | We measured the linear thermal expansion coefficients of amorphous 5–30 nm thick SiN and 17 nm thick Formvar/Carbon (F/C) films using electron diffraction in a transmission electron microscope. Positive thermal expansion coefficient (TEC) was observed in SiN but negative coefficients in the F/C films. In case of amorphous carbon (aC) films, we could not measure TEC because the diffraction radii required several hours to stabilize at a fixed temperature. |
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Date de publication | 2018-02-16 |
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Maison d’édition | Elsevier |
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Dans | |
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Langue | anglais |
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Publications évaluées par des pairs | Oui |
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Numéro NPARC | 23002830 |
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Identificateur de l’enregistrement | 6d816a79-9d25-4897-8f88-71d8cb436176 |
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Enregistrement créé | 2018-03-08 |
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Enregistrement modifié | 2020-03-16 |
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