Smooth wet etching by UV-assisted photoetching and its application to the fabrication of AlGaN/GaN heterostructure field-effect transistors

DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.1330226
Auteur	Rechercher : Maher, H.; Rechercher : DiSanto, D. W.; Rechercher : Soerensen, G.; Rechercher : Bolognesi, C. R.; Rechercher : Tang, Haipeng¹; Rechercher : Webb, James²
Affiliation	Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC Conseil national de recherches Canada. Institut Steacie des sciences moléculaires du CNRC
Format	Texte, Article
Date de publication	2000
Dans	Applied Physics Letters 77, nº 23 (2000) : 3833–.
Langue	anglais
Publications évaluées par des pairs	Oui
Numéro NPARC	12327979
Exporter la notice	Exporter en format RIS
Signaler une correction	Signaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet)
Identificateur de l’enregistrement	075f0db7-e973-45d6-9b5a-5b87b171ba41
Enregistrement créé	2009-09-10
Enregistrement modifié	2023-05-10

Détails de la page