Synthesis and characterization of calixarene derivatives as resist materials fo electron-beam lithography
Synthesis and characterization of calixarene derivatives as resist materials fo electron-beam lithography
| Format | Texte, Article |
|---|---|
| Date de publication | 2006 |
| Dans | |
| Publications évaluées par des pairs | Oui |
| Numéro du CNRC | 174 |
| Numéro NPARC | 8926407 |
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| Identificateur de l’enregistrement | dfdaeb24-e614-418b-a22d-25b7ede46230 |
| Enregistrement créé | 2009-04-23 |
| Enregistrement modifié | 2020-04-22 |
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