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Process windows of nickel and platinum silicides in deep sub-micron regime

Par Conseil national de recherches du Canada

AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Conférence1995 MRS Fall Meeting: Silicide Thin Films: Fabrication, Properties, and Applications Symposium, Boston, Massachusetts, November 27-30, 1995
Date de publication
Dans
  • Silicide thin films : fabrication, properties, and applications : symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A. (1996) : 59–64.
Série
  • Materials Research Society symposia proceedings 402.
Numéro NPARC12330138
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Identificateur de l’enregistrement83b22300-01c0-4c84-ba49-607465a6cce4
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-03-20
Date de modification :