Low temperature plasma etching for Si3N4 waveguide applications

DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1116/1.2836424
Auteur	Rechercher : Celo, Dritan¹; Rechercher : Vandusen, R.; Rechercher : Smy, T.; Rechercher : Albert, J.; Rechercher : Tarr, N. G.; Rechercher : Waldron, P. D.
Affiliation	Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
Format	Texte, Article
Date de publication	2008
Dans	Journal of Vacuum Science & Technology A 26, nº 2 (2008) : 259–258.
Numéro NPARC	12744647
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Identificateur de l’enregistrement	800aa0a3-663d-4393-af30-2aabd23dcfa8
Enregistrement créé	2009-10-27
Enregistrement modifié	2020-04-15

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