Characterization of Si[1-x]Ge[x] epilayers grown using a commercially available ultrahigh vacuum chemical vapor deposition reactor
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| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1116/1.589209 |
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| Format | Texte, Article |
| Date de publication | 1996-05 |
| Dans | |
| Langue | anglais |
| Numéro du CNRC | NRC-INMS-1173 |
| Numéro NPARC | 8897657 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 755596ef-87c7-42df-b735-b9d63d1ecb34 |
| Enregistrement créé | 2009-04-22 |
| Enregistrement modifié | 2020-03-20 |
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