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Gouvernement du Canada / Government of Canada

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Adhesion Evaluation of Plasma-Deposited Si3N4 and SiO2 Thin Films on Si by the Scratch Method

Par Conseil national de recherches du Canada

AuteurRechercher : 1; Rechercher : 2; Rechercher : 3
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut de recherche aérospatiale du CNRC
  2. Conseil national de recherches du Canada. Institut de recherche en construction du CNRC
  3. Ecole Polytechnique
FormatTexte, Autre
EmplacementVancouver
Condition d’accès
  • unclassified/unlimited
Numéro du CNRCSMPL-1995-0058
Numéro NPARC8929198
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Identificateur de l’enregistrement637a1218-0a45-466e-8fbb-f1f8632f5ca5
Enregistrement créé2009-04-23
Enregistrement modifié2020-03-03
Date de modification :