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Atomic Layer Deposition of Hafnium Silicate Thin Films Using Tetrakis(diethylamido)hafnium and Tris(2-methyl-2-butoxy)silanol

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1149/1.3137053
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
  • Journal of The Electrochemical Society 156, nº 8 (2009) : G89–G96.
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC12441141
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Identificateur de l’enregistrement5eecfa14-2819-431f-8c40-ddd7791d189a
Enregistrement créé2009-09-25
Enregistrement modifié2023-04-19
Date de modification :