| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1016/0010-938X(95)00034-H |
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| Auteur | Rechercher : Prescott, R.1; Rechercher : Mitchell, D. F.1; Rechercher : Graham, M. J.1; Rechercher : Doychak, J. |
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| Affiliation | - Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
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| Format | Texte, Article |
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| Résumé | The oxidation mechanisms of single crystal Zr-doped β-NiAl from 800 to 1200 °C were determined using primarily secondary ion mass spectrometry (SIMS) imaging and depth profiling. High spatial resolution SIMS imaging provides a means for critically assessing the effects of diffusion through the boundaries of the various morphologies of α-Al2O3 scales that form on β-NiAl. Transient oxidation occurs by outward Al diffusion through transition Al2O3 scales, θ-Al2O3 in this case, for temperatures from 800 to 1100 °C. Steady-state oxidation occurs by counter-diffusion of oxygen inward and both Al and Zr outward through boundaries in the α-Al2O3 ridge morphology. |
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| Date de publication | 1995-09 |
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| Dans | |
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| Langue | anglais |
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| Publications évaluées par des pairs | Oui |
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| Numéro NPARC | 12338717 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 594f75ee-b73e-4d92-9867-6192285abcee |
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| Enregistrement créé | 2009-09-10 |
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| Enregistrement modifié | 2020-04-29 |
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