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Growth of anodic oxides on Si(100) in 0.1M HCl : influence of the initial electrochemical potential on the growth mechanism and properties of the oxide

Par Conseil national de recherches du Canada

AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Chapitre de livre
Dans
  • Surface Oxide Films : 120–129.
Série
  • Electrochemical Society Proceedings 96-18.
Langueanglais
Numéro NPARC12332859
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Identificateur de l’enregistrement515dff49-aa01-4d39-9d27-e4a161b41a0b
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-03-03
Date de modification :