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Exposure characteristics of cobalt fluoride (CoF2) self-developing electron-beam resist on sub-100 nm scale

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.1487914
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
FormatTexte, Article
Sujetcobalt compounds; electron energy loss spectra; electron resists; nanostructured materials; transmission electron microscopy
Résumé
We have studied electron-beam exposure of cobalt fluoride (CoF2) thin films by real-time high-resolution transmission electron microscopy and by electron energy-loss spectroscopy. We were able to remove fluorine completely from an irradiated area and retain metallic cobalt by exposing the area at low dose rate and elevated temperature. The structures were composed of separated single-crystal cobalt nanoparticles with dimensions on the order of 5�10 nm.
Date de publication
Dans
  • Journal of Applied Physics 92, nº 2 (15 juillet 2002) : 1112–1121.
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Publication du CNRC
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Numéro NPARC12328545
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Identificateur de l’enregistrement4abdb180-f750-4d41-a458-37f856e2e1d2
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-04-06
Date de modification :