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Surface cleaning and preparation in AlGaN/GaN-based HEMT processing as assessed by X-ray photoelectron spectroscopy

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2007.01.016
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
  • Applied Surface Science 253, nº 14 (2007) : 6185–6190–.
Numéro NPARC12744268
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Identificateur de l’enregistrement4639c7b3-057d-4307-b85c-cb87bf463e10
Enregistrement créé2009-10-27
Enregistrement modifié2020-05-10

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