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Nanoscale resist morphologies of dense gratings using electron-beam lithography

Par Conseil national de recherches du Canada

FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
  • J Vac Sci Technol B 25, nº 3 (2007) : 745–53.
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro du CNRC301
Numéro NPARC8926129
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Identificateur de l’enregistrement3076ff26-b020-454c-bc58-f6807e3233a1
Enregistrement créé2009-04-23
Enregistrement modifié2020-05-10
Date de modification :