In situ synchrotron X-ray diffraction analysis of phase transformation in epitaxial metastable hcp nickel thin films, prepared via plasma-enhanced atomic layer deposition

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1002/admi.201800957
AuteurRechercher : 1 ; Rechercher : 1 ; Rechercher : 1 ; Rechercher :
Affiliation du nom
  1. Conseil national de recherches Canada. Nanotechnologie
FormatTexte
TypeArticle
Titre de la revueAdvanced Materials Interfaces
ISSN2196-7350
Volume5
Numéro24
Numéro d'article1800957
Résumé
Date de publication
Maison d’éditionWiley
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
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Identificateur de l’enregistrement21fc0070-2b81-4fea-9e92-6b978ae6a6e2
Enregistrement créé2019-04-17
Enregistrement modifié2019-04-17
Date de modification :