Reversible passivation of silicon dangling bonds with the stable radical TEMPO

DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1021/nl034258
Auteur	Rechercher : Pitters, Jason¹; Rechercher : Piva, Paul²; Rechercher : Tong, Xiaoshu³; Rechercher : Wolkow, Robert¹
Affiliation	Conseil national de recherches Canada. Institut national de nanotechnologie Conseil national de recherches Canada. Institut des étalons nationaux de mesure du CNRC Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
Format	Texte, Article
Résumé	TEMPO, 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyloxy, was used to passivate dangling bonds on hydrogen-terminated Si(100) and Si(111) surfaces. TEMPO reacts with the dangling bond through a radical coupling reaction of the oxygen and silicon atoms. STM images reveal that the TEMPO-passivated Si is stable under typical imaging conditions and also protects the surface from reaction with styrene. TEMPO may also be desorbed from the surface by scanning at elevated voltages (greater than -3.5 V) and provides the ability to selectively remove TEMPO to prepare single dangling bonds on an otherwise passivated surface.
Date de publication	2003-10-08
Dans	Nano letters 3, nº 10 (8 octobre 2003) : 1431–1435.
Numéro NPARC	12333584
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Identificateur de l’enregistrement	1cf279dc-1d46-4c0e-8cfd-1e7f96aa6bf5
Enregistrement créé	2009-09-10
Enregistrement modifié	2020-04-02

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